BG-401A曝光機
技術協議
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此協議為
合同的銷售技術協議。
BG-401A曝光機主要用于中小規模集成電路和半導體元器件制造工藝中的對準
及曝光。本產品操作方便、穩定性高、重復性好，并具有較高的性能價格比，可廣
泛應用于科研和生產。
1、設備組成
該設備主要由對準工作臺、紫外
光曝光系統、分離視場顯微鏡及其掃
描機構、電氣控制系統、汞燈電源系
統和調平桌架組成。整機體積小、占
地面積少、外形美觀大方。
1) 對準工作臺具有 X、Y、θ和 Z
向調整，同時 Z向抬升機構具
有粗、微調旋鈕手柄。采用真
空復印功能、基片底部吹氣功
能，提高基片線條的曝光質量和線條分辨率。
2) 紫外光曝光系統，采用了柱體蠅眼透鏡和高能力集光的橢球反射鏡等光學鏡
組形成多點光源，再經場鏡、聚光鏡后多點光源形成的多束光均勻的疊加在
曝光工作面上。
3) 分離視場顯微鏡便于觀察和對準，在 X、Y向可進行大范圍掃描觀察，既可
進行兩個標記的同時對準，又可進行單視場或雙視場切換，提高對準效率和
套準精度。可兼容 CCD成像觀察系統。
4) 電氣控制系統采用進口可編程控制器（PLC）、漢字 LCD顯示屏，響應快、
可靠性高；中文界面，具有運行狀態提示，便于用戶操作。
5) 250W超高壓汞燈電源，顯示汞燈的工作電壓和電流。具有觸發簡單，可靠合同編號：
履行地點：河北 燕郊
簽訂日期：
地址：北京東燕郊開發區海油大街 253號
電話：010-61597089
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性高的特點。
2、技術特點
1) 對準工作臺 X、Y向正交性好，θ旋向平穩， Z向調節可適用于不同厚度的
基片。對準精度高，速度快，漂移小。
2) 紫外光曝光系統具有光能利用率高，光強度高，光強分布均勻的特點。
3) 顯微鏡像質清晰，觀察舒適。用戶可以對物鏡倍率進行選配。
4) 該機的關鍵件引進日本 THK、IKO公司的高質量、高精密的產品，氣動元件
采用 SMC的產品，提高了產品的穩定性、使用壽命等。
5) 采用模塊化結構，配置靈活。可根據用戶的要求提供不規則基片或碎片的專
用掩模版架以及承片臺等，最大限度滿足用戶個性化要求。
3、技術指標
性能名稱
技術指標
備注
適用基片尺寸
φ4″（φ100mm）
適用掩模版尺寸
5″（125×125mm）
工作臺行程
Ｘ向
±5mm
Y向
±5mm
Z向
3mm
θ向
±12°
基片與掩模版分離間隙
0～0.05mm
對準精度
±1um
分離視場
顯微鏡
目鏡
10×
物鏡
10×
物鏡分離距離
28～90mm
掃描范圍
50×50mm
調焦范圍
8mm
曝光光源
250W進口超高壓汞燈
光強
≥15mW/cm2
曝光面積
φ108mm
曝光分辨率
1.5um（真空接觸）
曝光不均勻性
±3%
曝光時間
0～999s合同編號：
履行地點：河北 燕郊
簽訂日期：
地址：北京東燕郊開發區海油大街 253號
電話：010-61597089
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整機功率
1000W
整機外型尺寸（長×寬×高）
740×830×1300mm
4、BG-401A曝光機在包裝時包括
1) BG-401A曝光機主機
1臺
2) 250W汞燈電源
1臺
3) 4英寸承片臺
1個
4) 5英寸掩模版架
1個
5) 10×目鏡
1對
6) 10×物鏡
1對
7) 250W汞燈
1個
5、使用環境要求
電源：
220V±11V/50Hz
室內環境：
100級凈化
室內光線：
紅光或黃光
相對濕度：
40%～60%
壓縮空氣：
0.5～0.7Mpa(配置Φ6PU管的快速接頭)
氮氣（N2）：0.2~0.4MPa (配置Φ6PU管的快速接頭)
真空：
-0.08～-0.1Mpa (配置Φ4PU管的快速接頭)
無影響機器正常工作的振動（參照《微電子生產設備安裝工程施工及驗收規
范》），無強磁輻射。
